圖1 雙氧水 含量對表面粗糙度的影響

　　如圖1 所示為雙氧水 含量與表面粗糙度的關系。由圖可知，雙氧水含量低于 2% 時，對表面粗糙度的影響不是很大，當雙氧水含量大于 2% 時，表面粗糙度有變大的趨勢。這是因為拋光液中較低的雙氧水 含量增加了拋光液的化學作用可以提高材料去除率，但是其對合金的腐蝕性不是很強，拋光過程中機械作用和化學作用能夠平衡，鋁合金表面也沒有出現明顯的腐蝕坑等表面損傷，表面質量較為理想。當雙氧水含量在 3% 以上時，鋁合金表面粗糙度有增大的趨勢，一方面拋光液的氧化性增強，在鋁合金表面的其他元素容易形成腐蝕凹坑等缺陷，另一反面拋光過程中化學作用增強，磨粒的機械作用不足以去除表面氧化物，也使得拋光后表面質量變差。所以在鋁合金的 CMP 過程中添加含量較低的雙氧水作為氧化劑，可以提高材料的去除率，提高加工效率，同時又對材料的表面質量影響不是很大。

　　在精密單面拋光機上進行鋁合金 CMP 單面拋光機加工實驗。選取不同的拋光墊對鋁合金進行單面化學機械拋光加工，發現由上表面較硬層和底層軟墊組成的組合拋光墊的拋光效果比較好，適合作為鋁合金拋光加工的拋光墊。通過單一因素的方法，選取不同的拋光壓力、拋光盤轉速、 雙氧水 含量等參數，對鋁合金 CMP 過程材料去除率及表面質量的影響進行了研究，得出了如下的結論： (1) 鋁合金的去除率隨拋光壓力的增大而增大，在拋光壓力 20KPa 時表面質量比較好; (2) 拋光盤轉速對鋁合金材料去除率的影響是先增大后減小，在拋光盤轉速 60r/min 時，材料去除率比較大;而且此轉速下的鋁合金表面質量也是比較好的; (3)H 2 O 2 含量對材料去除率的影響也是先增大后減小，含量在 2% 左右時鋁合金的材料去除率比較大; 雙氧水含量對鋁合金表面質量的改善不明顯，反而含量越低表面質量越好，但是含量較低的雙氧水 對鋁合金表面質量影響很小。